财讯：研究员老尹：打破ASML垄断 国产光刻机的前景?

本篇文章2445字，读完约6分钟

华为告诉我们，芯片光有自研能力是不行的，必须有自造能力。

道理很简单，无论多么优秀的芯片设计企业，所设计的芯片如果没有人进行生产制造，就会成为图纸企业。

芯片制造、设备的关键有两个。 一个是光刻机，另一个是蚀刻机。

在蚀刻机方面，中微半导体的国产5nm蚀刻机得到了台湾积电的赞同，在蚀刻机行业，中国毫无疑问站在了世界的前列。

但是在光刻机行业，目前全球光刻机完全被asml、尼康和佳能垄断，三者合计市场占有率达到99%，高端euv光刻机市场的asml单独，市场占有率达到100%。

今年以来，在a股市场热炒的光敏概念股，其实大部分都在炒光致抗蚀剂，不是真正的光刻机概念。

但是，最近一家企业向上海交所提交了招股证书，计划登录科创板上市，它打破了国际巨头asml的垄断，被誉为中国最硬的科技公司

这家企业是:华卓精科！

一、打破了asml独家国产雕刻机的第一股

一台euv光刻机有10万个以上的零件、4万个螺栓、3千根电线、2公里长的软管等零件，重量达到18万公斤，40个集装箱、20辆卡车、3架货机完成运输所需。

asml光刻机的核心组件中，激光光源由美国cymer企业提供，事业台由asml tsmc提供，物镜组由德国蔡司企业提供，光学组件由德国berliner glas企业提供，零部件为日本kyocera

一台光刻机集合了世界所有国家最优秀的技术，可以说是世界技术的集大成者。

但是，受《瓦森纳协议》的影响，国外制造光刻机的先进科学技术都对我国实施了技术管制，这意味着我们国产的光刻机不能像asml那样通过世界的合作实现，所有的零部件都必须依赖本土光刻机的零部件和辅助产业链来完成

一台光刻机的零件超过10万个，难度最大的是激光光源、曝光系统、工件台3个地方，如果这3个核心难点得到处理，国产光刻机也即将到来。

关于这三个核心难点，日本尼康股份有限公司的社长在访问我国时说了一句话:光刻机光学系统不太容易，但我相信你们可以开发，但(双)工作平台恐怕拿不下来。 因为这个系统太多太复杂了。

工件台、光刻机的核心组件之一，通常在高速运动时需要达到2nm的运动精度。 2000年之前，光刻设备只有一个事业阶段。 2001年asml公司推出了两个工作平台技术，大大提高了生产效率和精度，asml也成为了世界上唯一掌握该技术的公司。

但是，asml构筑的技术铜墙铁壁相继被中国企业打破。

年4月，清华大学主导的02专业光刻机双工作台系统样机研制项目成功验收，标志着国内双工作台系统打破了asml的垄断。

双工作台技术背后的公司是华卓精科，据企业招商证书显示，目前企业双工作台已经供应给光刻机整机制造商上海微电子。

此次华卓精科提交上市申请，如果最终获得批准，将成为a股光刻机概念的第一只股票。

二、技术有短板市场，战术意义大于市场意义

华卓精科的双工作台技术打破了asml的垄断，实现了从0到1的突破，但与国外先进技术还是有一些差距。

这从企业招股证书的措辞可以看出，根据企业招股证书，企业雕刻机双工作台产品的技术性能描述接近国际同类设备水平，与其实际是两回事。

目前，企业的2台系列产品主要应用于65nm以下节点的arf干式、浸渍步进扫描光刻机，国际先进水平的2台技术已经应用于7nm，甚至5nm光刻机的生产制造。

除此之外，企业近三年的营业收入分别为5410.22万元、8570.92万元、12096.58万元，年复合增长率接近50%，但作为企业拳头产品，光刻机双工作台的营业收入分别为1521.37万、12096.58万元。

背后的理由也很好理解。 企业双工作台的主要顾客是光刻机整体的生产厂家，但目前全球99%的光刻机市场份额被asml、尼康、佳能三大巨头所占，企业顾客还是依赖上海微电子。

这与asml不同，asml产品供不应求，技术推动市场，市场不断反哺技术，形成良性正反馈。

华卓精科未来双工作台收入的提高，一是依赖自身技术的持续升级，二是依赖上海微电子产能的释放，更重要的是构建市场和技术升级的正循环。

但是，从短期来看，企业市场和技术正向循环的短板问题不大。

由于目前处于国家对集成电路领域的大力扶持阶段，投资都是胡椒面式，相应的我们观察到，过去3年，企业领取的政府补贴分别达到6836.83万、1.39亿、3.21亿元，年复合增长率超过100%

只要政府补助不停止，企业未来的技术研发就有可靠的资金保障，也弥补了市场不足导致收入下降的风险。 毕竟，企业的战术意义大于市场意义。

三、未来国产光刻机到底看谁？

今年以来，我国芯片领域面临的困难，其实和这个新型冠状病毒大爆发一样，不仅仅依赖一个企业，还需要全国的相关公司进行合作。

现在，在国产光刻机这个行业除了华卓精科以外，我们已经看到了其他好一点的苗头。

上海微电子、光刻机整体制造、企业自研的600系列光刻机已经实现90nm批量生产，预计2021年至2022年交付第一胎28nm工艺的沉浸式国产光刻机。

北京科益虹源、光刻机光源制造，企业是中科院旗下的子企业，是中国唯一的、世界第三大高能准分子激光研发制造公司，目前已完成6khz、60w光刻机光源的制造，该光源为现阶段主流arf光刻机光源，上海微电子交货28nm

国科精密、光学系统和物镜系统的供应商是目前企业开发的epolith a075型曝光光学系统，是中国第一个拥有全部知识产权的90nm节点步进曝光光学系统。 本课程还有国望光学，为光刻机提供物镜组。

启尔机电，国产光刻机浸液系统的提供者，企业前身是浙江大学流体动力和机电系统国家要点实验室的科研团队，主要产品是沉浸式光刻机四大核心部件之一的浸液系统，目前的研发进度仅次于荷兰的asml和日本的nikon。

一个国家要在一个行业领先世界已经不容易了。 我们现在面临的挑战是所有行业都必须达到世界领先的水平。 很明显，这是长征。

免责声明:市场存在风险。 选择需要注意。 这个句子只是参考，不能作为买卖的根据。